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MOSFET Qrr—在追求能效時,忽視這一參數是危險的

發布時間:2019-09-09 責任編輯:lina

【導讀】在電流流經MOSFET體二極管的應用中,反向恢復電荷Qrr會引起一些重大的挑戰,設計工程師需要仔細處理。在低功耗充電器和適配器產品應用中,其開關頻率高且負載電流一般小于5A,對I2R損耗的關注較少,設計工程師應密切關注動態損耗。選擇低Qrr MOSFET可以降低尖峰值,提高效率,降低EMI輻射。
 
在電流流經MOSFET體二極管的應用中,反向恢復電荷Qrr會引起一些重大的挑戰,設計工程師需要仔細處理。在低功耗充電器和適配器產品應用中,其開關頻率高且負載電流一般小于5A,對I2R損耗的關注較少,設計工程師應密切關注動態損耗。選擇低Qrr MOSFET可以降低尖峰值,提高效率,降低EMI輻射。
 
在為許多類型的消費和工業應用設計電源時,效率往往是最重要的因素,這些應用包括手機、平板電腦和筆記本電腦、可充電的電動工具和LED照明,以及不計其數的其它產品。 一些應用需要高效率,以滿足法定要求,或只是減少散熱,從而實現更小、更輕的最終產品設計。選擇同步MOSFET來滿足所有這些要求可能是一項較為困難的任務。
 
當然,工程師首先會查看顯眼的數據表參數,選擇電壓和電流額定值合適的器件。由于效率很重要,大多數器件首先按照RDS(on)選擇。 然后依據開關頻率選擇動態參數;例如,柵極電荷Qg和Qgd可以很好地反映柵極的預期損耗。Qg品質因數(FOM = RDS(on) x QG)也可以很好地反映開關應用中MOSFET的效率,同時MOSFET的電容,Ciss、Coss、Crss可以反映漏極-源極尖峰和柵極擾動是否會成為問題。低電容也有助于提高效率。最后,器件必須能夠適合于您的設計,所以您需要查看其尺寸和所采用的封裝。
 
然而,還有另一個參數Qrr常常被忽略,它通常位于數據表的底部。在電流流經MOSFET體二極管的應用中,例如,在同步整流器和續流應用中,反向恢復電荷Qrr會引起一些重大的挑戰,設計工程師需要仔細處理。
 
Qrr或反向恢復電荷是當二極管正向偏置時,在MOSFET體二極管的PN結累積的電荷。在大多數應用中,電流在每個開關周期流過體二極管兩次,導致電荷累積。之后的電荷釋放,要么是在MOSFET內部,要么是作為附加電流(Irr)短暫地流過高邊MOSFET,并在系統中造成額外的損耗。
 
尖峰特性
反向恢復電流(Irr)也與PCB的寄生電感相互作用,導致漏極-源極電壓(VDS)出現尖峰。這些尖峰可以通過降低PCB的電感或選擇Qrr較低的MOSFET來降低。 如果不能在設計階段解決尖峰問題,往往導致工程師不得不使用更高的電壓等級,因此項目后期需要使用價格更高昂的MOSFET。
 
但這仍然留下了一個問題。如果不加以處理,則漏極引腳上的尖峰可以經由電容耦合到柵極引腳上,導致所謂的“柵極擾動”。如果柵極擾動超過MOSFET的閾值電壓,則發生交叉導通,且MOSFET可能在應該關閉時導通。如果高端MOSFET和低端MOSFET同時導通,電源軌之間會產生直通電流,造成較大的功率損耗,并有可能損壞MOSFET。
 
讓我們來更詳細地研究一下這個問題。在大多數應用所需的死區時間,電流在每個開關周期會流過體二極管兩次。讓我們首先考量一下在同步場效應晶體管導通之前會發生什么。由于在死區時間內電流將流經體二極管,因此有些負載電流將作為積累電荷(Qrr)被捕獲。
當同步場效應晶體管導通時,則積累的電荷在MOSFET內部釋放。因此,部分負載電流由于Qrr效應而損耗,導致同步場效應晶體管內產生I2R損耗。
 
在第二種情況下,當高邊MOSFET導通時,MOSFET的體二極管再次發生反向偏置。附加電流Irr會短暫流經高邊MOSFET,直到積累的電荷Qrr完全耗盡。電荷耗盡不是瞬間完成的,Irr通常會流動幾十納秒,直到Qrr耗盡。反向恢復時間Trr被引用于數據表中。在這種情況下,Irr會在高邊MOSFET中導致額外的I2R損耗,如圖1所示。
 
MOSFET Qrr—在追求能效時,忽視這一參數是危險的
圖1:Irr導致高邊MOSFET中額外的I2R損耗
 
Vds尖峰
反向恢復電流尖峰Irr也與PCB的寄生電感相互作用,產生電壓尖峰,其中:
V = L x (di/dt)。
 
MOSFET的耐壓值選擇應該適當,以確保擊穿電壓額定值(BVDS)高于最大尖峰值;通常采用80%降額。測量的尖峰值為80V 時,Vds的耐壓一般要求采用BVDS至少100V的MOSFET。
 
柵極擾動
當Vds尖峰出現時,設計人員還應該在他們的應用中查看柵極擾動。由于MOSFET的所有三個端子之間都有電容,因此漏極引腳上的任何尖峰也將通過電容耦合到MOSFET的柵極引腳上。在極端情況下,如果柵極擾動超過MOSFET的閾值電壓,則MOSFET會進入導通狀態。
 
預驅電路通常需要設置死區時間,以保證高邊MOSFET和低邊MOSFET不能同時導通。但是,當柵極擾動發生時,低邊與高邊MOSFET同時導通,導致直通電流在電源軌之間流動,從而引起I2R損耗過大,在極端情況下會導致MOSFET損壞。
 
所有MOSFET都不是相同的
對于100V MOSFET,在4~8mΩ導通電阻區間內就不同MOSFET供應商的數據表參數進行比較時,可以發現不同供應商的Qrr存在很大差異。對于具有類似導通電阻的MOSFET,安世半導體的NextPower 100V技術提供的Qrr通常比其他MOSFET供應商低30%到100%。
在典型應用中,因為很難分離和測量單個Qrr效應,因此我們依賴于仿真來模擬其效應。
對7mΩ MOSFET PSMN6R9-100YSF的Spice 仿真顯示,當Qrr增大至2倍時,產生的尖峰電壓可以增加約8%,如圖2所示。
 
MOSFET Qrr—在追求能效時,忽視這一參數是危險的
圖2:通過一款7mΩ MOSFET的Spice仿真顯示,當Qrr增大至2倍時,產生的尖峰電壓增加約8%
 
選擇低Qrr MOSFET也可以顯著提高效率,特別是在低負載電流下。
 
結論
在低功耗充電器和適配器產品應用中,其開關頻率高且負載電流一般小于5A,對I2R損耗的關注較少,設計工程師應密切關注動態損耗。選擇低Qrr MOSFET可以降低尖峰值,提高效率,降低EMI輻射,如圖3所示。
 
MOSFET Qrr—在追求能效時,忽視這一參數是危險的
圖3:低Qrr MOSFET可以降低尖峰值,提高效率,降低EMI輻射
 
 
 
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